產品介紹
真空脫羥爐 是一種在高真空和高溫環(huán)境下，用于去除材料（主要是合成石英玻璃）內部結構中的羥基（-OH）官能團的專用工業(yè)爐。
真空脫羥爐 非常重要的應用領域是高端合成石英玻璃的后期處理。
這種處理后的石英玻璃被稱為 “低羥基石英玻璃” 或 “干法石英玻璃” ，主要應用于：
1、半導體光刻技術
用于制造光刻機的光學系統(tǒng)，如透鏡、反射鏡和光掩膜版基板。羥基會強烈吸收深紫外(DUV，如193nm)和極紫外(EUV)波長的光，導致能量損失、透鏡發(fā)熱變形，嚴重影響光刻精度。脫羥處理是制造高性能光刻鏡頭材料的必備工序。
2、高端光學元件
用于激光器(特別是紫外激光器)、太空望遠鏡、高精度測量儀器等。羥基的存在會導致光學元件在特定波段(尤其是紅外和紫外)產生不必要的吸收峰，降低透光率和激光損傷閾值。
3、光纖通信
在制造某些特種光纖(如傳能光纖)的預制棒時，也需要控制石英玻璃中的羥基含量，以減少信號傳輸損耗。
設備應用
針對材料的高溫燒結工藝保證耐熱及絕緣性可靠性設計，新型電極結構避免了高溫爐電極漏水現(xiàn)象，并且加熱系統(tǒng)中的易損部件更便于維修和更換。
耐熱性高
安全性好
維修高效
真空脫羥爐主要用于
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硬質合金
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陶瓷（氧化鋯陶瓷、氧化鋁陶瓷等）
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磁性材料
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粉末材料
技術參數(shù)
型號 | BR-VFQ |
爐膛尺寸（寬x高 x深） | 可定制 |
最高工作溫度 | 1200 oC |
長期工作溫度 | ≤1100℃ |
加熱溫區(qū) | 3溫區(qū)，每個溫區(qū)獨立控溫，同時溫度互鎖，確保溫度同步。 |
爐殼結構 | 雙層水冷爐殼，側開門； |
控溫精度 | ± 1 oC |
加熱速率 | 1000oC以下，推薦升溫速率<20 oC /分鐘 1000oC--1200oC, 推薦升溫速率<10oC/分鐘 |
熱電偶 | S型 |
加熱元件和爐膛 |
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溫控系統(tǒng) |
2.人機界面： ● 15寸液晶觸摸屏，實時顯示升溫曲線。 ● 可針對不同的產品，編制不同的工作曲線，最多可編制30條。 ● 升溫曲線記錄功能?？蓛Υ孢^去30天的所有工作曲線。 ● 超溫報警+斷偶報 |
真空系統(tǒng) | █ 極限真空度７ｘ１０－3Pa;（空爐、冷態(tài)、凈化后） █ 工作真空度７ｘ１０－2Pa;（空爐、冷態(tài)、凈化后） █ 真空機組：直聯(lián)式機械泵； 羅茨真空泵+擴散泵 |
氣路系統(tǒng)及氣壓安全 | █ 進氣系統(tǒng)，可充入不同的惰性氣體。據工藝需要，調整氫氣進氣壓力及流量；單向閥防止氣體回流，提供安全保護。 |
